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使用资料公司推出钨平整化技能 助力先进芯片规划

来源:http://www.pv-home.com 责任编辑:w66利来国际老牌 2018-09-22 21:49

  使用资料公司推出钨平整化技能 助力先进芯片规划

  •新式钨化学机械平整化(CMP)技能首要使用于业界最具应战性的芯片规划
•通过验证的双硅片渠道可最大极限地进步产值和下降制作本钱
•显现使用资料公司共同的闭环薄膜厚度和均匀性操控技能

  2011年6月20日,上海——使用资料公司今日宣告其成功的Applied Reflexion® GT CMP1体系工艺现已扩展,添加钨薄膜平整化工艺。该CMP工艺关于制作先进的动态随机存储器(DRAM)、NAND闪存和逻辑器材的晶体管触点和通孔至关重要。依托通过验证的Reflexion GT双硅片架构,客户可以完成无可对抗的高产值,以及相关于同类体系,单片硅片节约超越40%的制作本钱。更重要的是,使用资料公司是全球仅有选用闭环薄膜厚度和均匀性操控技能的钨化学机械平整化体系制作商。这种操控技能是进步当今先进晶体管结构成品率的一项重要技能。

  使用资料公司CMP事业部总经理Lakshmanan Karuppiah表明:现在,先进芯片的制作变得日益杂乱,需求更多钨CMP工序和愈加杂乱的工艺操控。Reflexion GT体系能以合理的本钱完成杰出的硅片外表功能,协助芯片厂商应对这些应战。客户将咱们立异的Reflexion GT体系在铜互连使用方面的敏捷选用和商场比例的大幅进步验证了双硅片理念的价值,进一步稳固了咱们在这一要害芯片制作工艺范畴的领先地位。

  Applied Reflexion GT

  使用资料公司于2009年底推出的Reflexion GT主机渠道,树立了CMP功能和出产功率的新标杆。该体系选用共同的双模架构,在一个抛光垫上可一起处理两片硅片,然后进步产值、大幅下降耗材本钱。此外,该体系杂乱而精细的实时概括及结尾操控技能,有助于客户获得优秀的概括操控及可重复性。

  商场研讨机构Gartner Dataquest的研讨显现,使用资料公司在2010年的CMP商场上获得了超越75%的比例,是该商场见义勇为的领军者。迄今为止,使用资料公司已在全球各地的客户端有超越3,000套的CMP体系装置,这些体系由业界最大的效劳和支撑网络供给支撑,延伸设备的正常运转时刻,进步客户工厂的功率。
 

  

   使用资料钨平整化技能芯片规划

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